假(jia)如使用的(de)去離子水設備(bei)中存(cun)有殘留氣體的(de)狀況，會(hui)對水處理(li)設備(bei)導致一定(ding)程度的(de)毀壞，那樣假(jia)如出現了這類如今(jin)會(hui)有什(shen)么(me)后果，應(ying)該做什(shen)么(me)應(ying)急解決設備(bei)呢(ni)?

去離子水(shui)設(she)備(bei)含有殘留氣體原因一般具有二種狀況：

1、當ro反滲透去離子水設(she)備再次運行時，機(ji)器設(she)備里的氣(qi)體(ti)并沒有(you)排(pai)盡就迅速變(bian)壓運作(zuo)。解決方案：應在2～4bar的工作(zuo)壓力(li)下將剩下的氣(qi)體(ti)排(pai)盡后(hou)，再逐(zhu)漸(jian)變(bian)壓運作(zuo)。

2、當(dang)ro反(fan)滲透去離子(zi)水(shui)設備的(de)(de)預(yu)處理系統軟件與高壓油泵中間的(de)(de)連(lian)接頭(tou)密封性(xing)不太(tai)好或(huo)預(yu)處理供電(dian)不夠時，如微濾(lv)產生阻塞，在密封性(xing)不好的(de)(de)地方會出現氣(qi)體進到。解決方案：應清理或(huo)替換微過(guo)濾(lv)裝置，保障(zhang)管道不漏水(shui)。

去(qu)離(li)子水(shui)設(she)(she)備是選用預處理(li)、膜(mo)分離(li)技術、超提純解決(jue)(jue)及(ji)其后級(ji)解決(jue)(jue)等方式，將水(shui)里的導電介質(zhi)(zhi)基本上徹底除去(qu)，又(you)將水(shui)里不電離(li)度的溶液化學(xue)物質(zhi)(zhi)、氣(qi)體(ti)及(ji)物質(zhi)(zhi)均除去(qu)至(zhi)很(hen)低水(shui)平的水(shui)處理(li)設(she)(she)備。

選用預處理、膜分(fen)離(li)技術、超提純(chun)解決及(ji)其后級解決等方式，將(jiang)水(shui)里(li)(li)的(de)導電(dian)介質基本上(shang)徹底除(chu)去(qu)，又(you)將(jiang)水(shui)里(li)(li)不電(dian)離(li)度的(de)溶液化學(xue)物質、氣體及(ji)物質均除(chu)去(qu)至很低水(shui)平(ping)的(de)水(shui)處理設備。

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